Ca permet d'augmenter le flux critique exactement

en empêchant d'avoir un microfilm de vapeur continu sur toute la surface, car la base est alors isolée physiquement du fluide (comme une main plongée dans l'azote qques secondes) et l'efficacité de l'évapo se casse la gueule d'un seul coup. Pour du cuivre lisse, c'est aux alentours de 25 W/cm² de souvenirs, ce qui est relativement faible (un die de CPU peut atteindre plus de 150 W/cm² en pointe o/c, mais il faut tenir compte de l'étalement de la puissance dans la base de l'évapo, ce qui diminue le flux à la paroi mouillée car la chaleur est répartie).
Ce sont des bases de ce type qui sont parmi les meilleures surfaces actuellement, on peut tripler le flux critique sans perte d'efficacité par rapport à la même chose toute lisse :
